印制板制造廠排放的低濃度清洗廢水和高濃度廢液濃度差別很大，相應(yīng)的處理方法也有很大差異。因此，對印制板廢水管的末端處理、第一次廢水的收集和不同性質(zhì)的單獨(dú)處理，避免了相互干擾，增加了印刷電路板廢水處理的難度。
印制板廠產(chǎn)生的廢水很大，主要污染成分是COD和重金屬。過去我國通常采用重金屬化學(xué)混凝沉淀法，與堿液形成氫氧化物羽狀物，再經(jīng)沉淀分離去除，但由于含有EDTA、氨等螯合成分，因此難以處理。

一.電路板廢水的收集和分類

1.分別收集廢水和廢液

大部分工藝廢水來自各單位的清潔水連續(xù)排放，廢水中污染物濃度低，廢液定期分批排放，污染物濃度很高。為了避免廢水排放到污水處理系統(tǒng)中所造成的負(fù)荷突然增加，必須根據(jù)各廢液的性質(zhì)對其進(jìn)行處理，分離收集和預(yù)處理，然后以連續(xù)和定量的方式排放到廢水處理系統(tǒng)中。

2.根據(jù)廢水和廢液的性質(zhì)對其進(jìn)行解釋

(1)刷磨和噴砂廢水
廢水中含有大量的銅粉，因此在處理過程中應(yīng)將銅粉分離回收，并將分離液加入一般清潔廢水中進(jìn)行處理。

(2)酸性廢液
 收集濃縮酸和重金屬污染物的廢液，以保持處理系統(tǒng)進(jìn)水質(zhì)量的穩(wěn)定，避免處理劑用量的頻繁變化。

(3)去墨、顯影、綠漆濃堿廢液
去墨、顯影、綠漆廢液COD濃度甚高，在強(qiáng)酸性情況有凝集現(xiàn)象產(chǎn)生，故宜單獨(dú)收集，先行處理后再并入廢水生物處理系統(tǒng)。濃堿廢液一般來自脫脂，水量較小，COD則甚高，故亦并入。

蝕刻、剝錫、鍍金及ＭＥＫ廢液一般可進(jìn)行廠外回收，故宜單獨(dú)收集。

二.電路板廢水的處理

1.有機(jī)干膜法：在廢水中加入FeCl 3，用稀鹽酸(緩慢添加HCL)將pH調(diào)至2，然后用CaCO 3緩慢調(diào)節(jié)pH至7)。然后將處理后的溶液與普通有機(jī)廢水混合處理。其機(jī)理是：用高電荷的Fe3+中和沉淀廢水中部分帶負(fù)電荷的有機(jī)電荷，用稀鹽酸調(diào)節(jié)PE到2，使廢水中的有機(jī)物不被電荷中和，使沉淀的有機(jī)物酸化形成干膜。CaCO 3對廢水中懸浮顆粒的沉淀效果與混凝劑相似。

2.芬頓工藝：經(jīng)過酸化處理高濃度有機(jī)廢水，去除干膜，調(diào)節(jié)pH值至4≤5，加入芬頓試劑，氧化廢水中的某些有機(jī)物，反應(yīng)結(jié)束后加入Na2S03或調(diào)節(jié)pH值至7≤10，得到過量的H20。預(yù)處理液與一般有機(jī)廢水混合后，再與一般有機(jī)廢水一起處理，反應(yīng)機(jī)理如下：

Fe2+H 202-Fe3+OH-+OH

Fe3+H 202 Fe2+>+OOH+.h

3.UV-Fenton法：該方法與單獨(dú)的Fenton法相似，但在處理過程中加入紫外光促進(jìn)了更多、更快的OH氫和氧自由基的產(chǎn)生，從而加速了氧化反應(yīng)的進(jìn)行，該方法的優(yōu)點(diǎn)是：紫外光產(chǎn)生的OH氫和氧自由基遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過了簡單的Fenton法，縮短了反應(yīng)時(shí)間，因此氧化反應(yīng)也更加徹底。

4.UV-H 202工藝：將廢水pH調(diào)整為酸性，用紫外光照射反應(yīng)體系中添加的H2O2，產(chǎn)生OH和氧自由基，氧化廢水中的有機(jī)物，從而降低COD，反應(yīng)機(jī)理為H 202+HV-20H，此后0H氫和氧自由基對廢水中有機(jī)物的氧化作用與上述相同。
在高濃度有機(jī)廢水的處理中，建議廢水的酸化處理可以減少后處理的負(fù)荷。由于酸化，會(huì)產(chǎn)生大量高粘度的廢干膜。如果不及時(shí)處理，它就會(huì)附著在處理槽壁上，無論哪種化學(xué)法經(jīng)過長時(shí)間的處理都不能處理。

三.電路板廢水處理

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